684 珩磨機(jī)的總體設(shè)計(jì)【優(yōu)秀含8張CAD圖+文獻(xiàn)翻譯+說(shuō)明書(shū)】
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珩磨汔缸孔徑的評(píng)價(jià)
摘要
內(nèi)燃機(jī)汽缸孔的珩磨組織在潤(rùn)滑油的消耗量,有害氣體排放,以及運(yùn)轉(zhuǎn)特性方面發(fā)揮了重要作用.為了客觀評(píng)價(jià)珩磨表面,描述表面織構(gòu)的特征被量化成二維數(shù)據(jù).文章著重于兩個(gè)關(guān)鍵步驟的數(shù)據(jù)分析:預(yù)處理,其目的是去除不相干的成分和提取感興趣的信息,和提取特征以保證感興趣的表面特征能夠得到可靠的數(shù)值估計(jì),如珩磨角,溝槽參數(shù),表面缺陷等,評(píng)估結(jié)果可以很容易的應(yīng)用于用戶(hù)的評(píng)價(jià)。
關(guān)鍵詞:珩磨,表面紋理,自動(dòng)視覺(jué)檢測(cè)
1、簡(jiǎn)介:
內(nèi)燃機(jī)氣缸孔是用珩磨的方法加工的,經(jīng)過(guò)該加工的表面主要由兩個(gè)隨機(jī)在氣缸對(duì)稱(chēng)軸不同角度出現(xiàn)的螺旋槽帶組成。紋理質(zhì)量對(duì)于氣缸的干燥作業(yè)性能,石油消費(fèi)量,有害氣體排放,和運(yùn)行性能是非常重要的。直到目前,專(zhuān)家們?nèi)匀灰揽炕谖⒂^圖像的視覺(jué)觀察來(lái)評(píng)價(jià)珩磨組織。這種方法枯燥,具有很大的主觀性,并且耗時(shí)。為了得到客觀和可重復(fù)性的結(jié)果,一個(gè)自動(dòng)化的方法檢查是必要的。
2 、檢查方法
2.1表面數(shù)據(jù)
有一些不同的方法來(lái)衡量的珩磨表面。從表1中可以看出,傳統(tǒng)的方法,機(jī)械筆只執(zhí)行表面輪廓的一維測(cè)量。與此相反,灰度圖和光學(xué)簡(jiǎn)圖提供二維數(shù)據(jù)在合理的時(shí)間。
由于珩磨紋理的橫向幾何特征只能進(jìn)行分析二維數(shù)據(jù),在后面的討論中,我們將集中分析這樣的數(shù)據(jù)??疾斓呐c不同的測(cè)量原理相關(guān)的特征也被列入本表。
描述珩磨紋理重要特征的信號(hào)模型是本文所討論的評(píng)價(jià)方法的基礎(chǔ)。基于這個(gè)模型,可以展示明確的和數(shù)學(xué)上完整定義的特性,使得組織評(píng)估具有重現(xiàn)性和客觀性。這種方法不同于許多廣泛應(yīng)用的方法—如依靠神經(jīng)網(wǎng)絡(luò),它往往被視為一個(gè)“暗箱”[1] 。 特征的選擇是基于珩磨圖 [2] ,和許多專(zhuān)家的意見(jiàn),并且也在分析輪廓數(shù)據(jù)的實(shí)例中通過(guò)增加新的體積參數(shù)來(lái)拓展該方法。這得出了一系列的可以滿(mǎn)足個(gè)人用戶(hù)需求的特征。
2.2珩磨組織性能
圖1顯示一些珩磨組織的性能,在這個(gè)基礎(chǔ)上來(lái)定義特征。最常用的是粗糙度參數(shù),例如那些基于承載比曲線(xiàn)(雅培曲線(xiàn))的參數(shù) [ 3 ] ,以及Ra,Rz和Rmax。 [ 4 ] 。然而,處理珩磨表面,重要的是要確定一些將橫向幾何形狀量化的特征。通過(guò)這種方式,最相關(guān)的紋理特性可以被描述,如珩磨角度,材料涂片,斷溝, 雜散溝槽 ,洞,外構(gòu)和薄片,如圖1所示。此外,描述溝槽平衡,穩(wěn)態(tài)的存在,凹槽形狀,裂縫,轉(zhuǎn)折溝槽,零散標(biāo)記的特征也需要。
機(jī)械鐵筆
灰度圖像
光學(xué)輪廓
測(cè)量區(qū)域
1-D
2-D
2-D
深度信息
是
不
是
橫向幾何信息
不
是
是
覆蓋整個(gè)表面
非常耗時(shí)
盡可能合理努力
非常耗時(shí)
計(jì)算處理費(fèi)用
低
高
高
非接觸測(cè)量
不
是
是
標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù)
是
不
是
圖表1:表1 :比較機(jī)械手寫(xiě)設(shè)備,灰度圖像和光學(xué)簡(jiǎn)圖灰鑄鐵氣缸套
圖1 :珩磨紋理顯示橫向特點(diǎn)和缺陷: (a)材料涂片 ,溝中斷; (b)雜散溝槽; (c)孔或外構(gòu)的合作; (d)薄片。
2.3自動(dòng)檢測(cè)
圖2顯示自動(dòng)檢測(cè)應(yīng)用的概述和其在珩磨加工中對(duì)質(zhì)量控制的目的。一個(gè)二維或三維傳感器提供珩磨表面的數(shù)據(jù)g(x),其中x = (x,y)T∈ R 2指橫向空間坐標(biāo)系?;疑珘K圖是傳感器數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)的一部分,該系統(tǒng)的輸出數(shù)據(jù)可以用來(lái)簡(jiǎn)單地說(shuō)明表面質(zhì)量,還可以在加工工藝發(fā)生中斷時(shí)發(fā)出警報(bào),或可以通過(guò)反饋控制器調(diào)節(jié)珩磨過(guò)程,因?yàn)殓衲ソM織包含有關(guān)功能和加工過(guò)程的信息,不論珩磨后珩磨刷執(zhí)行或不執(zhí)行。 以下各節(jié)中,我們將集中于自動(dòng)化檢測(cè)的兩個(gè)關(guān)鍵步驟:對(duì)傳感器數(shù)據(jù)的預(yù)處理和特征提取,我們將針對(duì)這些步驟舉出一些例子。
圖2 :自動(dòng)檢測(cè)的磨練表面。
3、預(yù)處理
預(yù)處理的目的是要抑制無(wú)關(guān)部分,即不均勻性i(x)和外界干擾b(x) ,同時(shí)增強(qiáng)感興趣的信息,比如組織t(x)。在圖像數(shù)據(jù)的獲取過(guò)程中,不均勻性i(x)可能是由于表面光潔度的空間差異。其他的產(chǎn)生外界干擾的原因包括偏離理想情況下的溝槽和缺陷,比如說(shuō)材料涂片和薄片等。
我們用一個(gè)信號(hào)模型g(x)來(lái)描述傳感器數(shù)據(jù),包含組織t(x)和無(wú)關(guān)成分i(x)和b(x):
為了能夠替代感興趣的信息t(x),首先要進(jìn)行以下的假設(shè):不同的成分必須在數(shù)學(xué)上是可以進(jìn)行區(qū)分的。
如圖3所示,經(jīng)過(guò)嚴(yán)格的分離程序,我們可以得到原始數(shù)據(jù)的成分。然后,分離出不需要的成分,經(jīng)過(guò)逆變換可以得到預(yù)處理的結(jié)果。
圖3:預(yù)處理的原理
這種處理過(guò)程的好處是簡(jiǎn)化了特征提取的步驟,并且使圖像處理過(guò)程更穩(wěn)定,這可以通過(guò)以下的例子來(lái)說(shuō)明。
3.1 均質(zhì)
當(dāng)凹槽組織被數(shù)據(jù)采集過(guò)程中的非均勻性強(qiáng)度所降級(jí),如非均勻照明,均質(zhì)化就可以制止這種有害的組成部分[ 6 ] 。圖4用這種方法做某一特定組織的例子。圖的左邊,是原始的形態(tài)。中間是用標(biāo)準(zhǔn)的同質(zhì)化方法——同質(zhì)濾波,假設(shè)非均質(zhì)和組織結(jié)合——得出的結(jié)果。特別是在左上角的部分,這張圖像的對(duì)比度很差。右邊的圖像是采用了圖3中的模型得出的結(jié)果。在這種情況下,對(duì)比度和臨界值都是均勻的,它基于一種綜合考慮了感興趣的信號(hào)和非均勻干擾信號(hào)的模型[6]。這的結(jié)果顯然比前者更均勻,并且使組織分析更具有說(shuō)服力。
圖4 :均質(zhì): (左)規(guī)劃紋理; (中)同態(tài)濾波; (右)基于模型的同質(zhì)化
3.2紋理分解
下一個(gè)例子是對(duì)磨紋理進(jìn)行,以簡(jiǎn)化特征提取。由于珩磨組織很復(fù)雜,如果根據(jù)方程 (1)能夠得出部分組織信號(hào)g(x),那么檢測(cè)任務(wù)所需要的特征的提取就變得很容易了。這樣,開(kāi)發(fā)出一種從組織信號(hào)g(x)中分離出包含直接結(jié)構(gòu)(比如溝槽)的成分函數(shù)t(x)和表現(xiàn)各向同性的組成(比如背景,包括缺陷和物體)的函數(shù)b(x)。在這種情況下,我們將利用均質(zhì)假設(shè)。
幸運(yùn)的是,一個(gè)非常有效的執(zhí)行此分離的算法已經(jīng)存在[7].圖5的左邊顯示的是原始珩磨紋理,其他兩個(gè)圖像的結(jié)果代表的是應(yīng)用該算法計(jì)算出的自適應(yīng)紋理結(jié)果。在溝槽的組織中,只有理想的凹槽才能被觀察到,而背景圖像包含所有偏離理想槽和缺陷以及其他物質(zhì)。至于更全面分離算法的討論,有興趣的讀者可參照[ 7 ]。
圖5 :紋理分解:(左)珩磨紋理;(中心)凹槽紋理; (右)背景紋理。
3.3、參考表面
最后為了消除形狀組成,我們將定義參考表面。圖6展示了珩磨表面輪廓的軌跡,光滑的曲線(xiàn)描述了將要消除的形狀組成。但是,對(duì)流低通濾波的方法導(dǎo)致溝槽區(qū)域的畸變,如用點(diǎn)劃線(xiàn)表示的。我們針對(duì)該問(wèn)題已經(jīng)開(kāi)發(fā)出了一種二維迭代的濾波器來(lái)取代高斯濾波,這種方法在處理深的溝槽時(shí)優(yōu)勢(shì)尤為明顯。圖7中所描繪的三維圖形展示了珩磨表面的一個(gè)部分和應(yīng)用此方法算出的參考表面。
圖6:參考表面:對(duì)流低通濾波的問(wèn)題
圖7 :原件磨練表面和參考面。
4、特征提取
4.1珩磨角
第一個(gè)特征提取的例子是估計(jì)珩磨角度。為此,首先計(jì)算出周期(PG),它與傅里葉變換出的紋理函數(shù)成正比。
周期是一個(gè)估算的功率譜密度( PSD )函數(shù)的量,它指出了產(chǎn)生紋理的隨機(jī)過(guò)程的譜線(xiàn)的性質(zhì)[ 9 ] 。然后,徑向估算周期,如圖8所示。
由于珩磨紋理包括兩個(gè)系列的凹槽,估算功能也顯示出兩個(gè)極大值。珩磨角度估算兩個(gè)極大值之間的差異有關(guān):
由于平均計(jì)算使周期值盡管存在差異,徑向投影卻是一個(gè)非常光滑曲線(xiàn)。因此,這一方法可以快速和可靠的估計(jì)珩磨角。
4.2、溝槽參數(shù)
下面的例子是關(guān)于溝槽參數(shù)的提取的。這是基于Radon轉(zhuǎn)換來(lái)完成的,這種轉(zhuǎn)換是將二維圖像的每一行畫(huà)作轉(zhuǎn)換區(qū)域的一個(gè)點(diǎn),如圖9所示[10]。接著,每一個(gè)Radon轉(zhuǎn)換的和溝槽相對(duì)應(yīng)的明顯的峰都通過(guò)形態(tài)濾波被檢測(cè)到。最后,對(duì)于每一個(gè)被檢測(cè)到的溝槽,其相應(yīng)的參數(shù)(振幅,寬度,位置和角度)都可以通過(guò)濾波器的輸出來(lái)估測(cè)[9]。
圖9 :圖示Radon變換
4.3、缺陷的檢測(cè)
在3.2節(jié)中,我們介紹了一種分解珩磨組織的算法。本節(jié)將重點(diǎn)討論所得到的背景組織,它包含了關(guān)于缺陷和物質(zhì)的主要信息,并且將研究一種可以通過(guò)圖像來(lái)檢測(cè)缺陷的有效方法。它是上一小節(jié)溝槽檢測(cè)的改進(jìn),如圖11[11]。
在這種情況下,通過(guò)分解得到的溝槽圖像10的Radon轉(zhuǎn)換主要是收集有關(guān)溝槽的信息,如圖10(b)。
此外,分布在溝槽的缺陷也通過(guò)背景圖片的Radon變換集中于Radon域的峰上,見(jiàn)圖10 (d)和(e)。通過(guò)在Radon域內(nèi)結(jié)合凹槽紋理和背景紋理,只有代表缺陷溝槽的峰仍然存在,見(jiàn)圖10 (c)項(xiàng)。此圖片最明顯的高峰對(duì)應(yīng)于圖10(f)中的三個(gè)溝槽,它們確實(shí)是原始圖像中最突出的凹槽缺陷如圖5(a)。
圖10:缺陷檢測(cè):(a)溝槽圖像;(b)圖像a的Radon轉(zhuǎn)變;(c)b和e的乘積;(d)背景圖片;(e)圖像d的Radon轉(zhuǎn)變;(f)檢測(cè)到的溝槽
5、總結(jié)和結(jié)論
本文展示了如何利用信號(hào)處理方法從不同的方面來(lái)自動(dòng)評(píng)估灰鑄鐵中珩磨組織的相關(guān)性能。為了進(jìn)行有效地自動(dòng)評(píng)估,首先需要進(jìn)行預(yù)處理,并且一個(gè)明確的和數(shù)學(xué)上完整定義的特征導(dǎo)向的方法,通過(guò)納入深層數(shù)據(jù),新的與功能相關(guān)的參數(shù)就可以被計(jì)算出來(lái)。在以往的做法,只有粗糙度參數(shù)的一階統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)被用來(lái)量化需要研究的特點(diǎn)。但是本文所探討的方法,,是基于紋理的橫向幾何特征的基本分析來(lái)進(jìn)行的,包括那些與高階相關(guān)的統(tǒng)計(jì)情況。這使專(zhuān)家和標(biāo)準(zhǔn)所提出的自動(dòng)評(píng)估可以適用于不同的公司。
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