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無損檢測(cè)檢驗(yàn)員試題庫 編寫人：檢測(cè)中心 孫鳳華 一、單項(xiàng)選擇題（四個(gè)答案中只有一個(gè)是正確的，在括號(hào)中寫上正確答案的序號(hào)，共100題） 1、按《特種設(shè)備無損檢測(cè)人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則》中規(guī)定，無損檢測(cè)人員級(jí)別由低到高的正確順序?yàn)椋? ） A、Ⅲ、Ⅱ、Ⅰ B、Ⅱ、Ⅲ、Ⅰ C、Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ D、以上都不對(duì) C 2、哪一種不是鍋爐壓力容器常規(guī)五大檢驗(yàn)方法（ ） A、UT B、RT C、ET D、AET D 3、壓力容器的焊接接頭，應(yīng)進(jìn)行（ ）檢查合格后，才能進(jìn)行無損探傷檢驗(yàn)。 A、形狀尺寸 B、表面飛濺物 C、外觀質(zhì)量 D、A和C D 4、以下哪一種缺陷不屬于面積型缺陷（ ） A、裂紋 B、未熔合 C、條狀?yuàn)A渣 D、咬邊 C 5、以下屬于鍋爐壓力容器常用的低合金鋼的是：（ ） A、低合金結(jié)構(gòu)鋼 B、低溫鋼 C、耐熱鋼 D、以上都是 D 6、有延遲裂紋傾向的材料焊接完成后（ ）小時(shí)后才能探傷。 A、24小時(shí) B、48小時(shí) C、12小時(shí) D、2小時(shí) A 7、特種設(shè)備檢驗(yàn)檢測(cè)人員，出具虛假的檢驗(yàn)檢測(cè)結(jié)果、鑒定結(jié)論或者檢驗(yàn)檢測(cè)結(jié)果、鑒定結(jié)論嚴(yán)重失實(shí)的，由特種設(shè)備安全監(jiān)督管理部門對(duì)檢驗(yàn)檢測(cè)人員處（ ）元罰款。 A、5000～5萬 B、2000～5萬 C、2000～2萬 D、1000～1萬 A 8、一旦發(fā)生放射事故，首先必須采取的正確步驟是（ ） A、報(bào)告衛(wèi)生防護(hù)部門 B、測(cè)定現(xiàn)場(chǎng)輻射強(qiáng)度 C、制訂事故處理方案 D、通知所有人員離開現(xiàn)場(chǎng) D 9、坡口或焊材表面不清潔，有水或油污，可能引起（ ） A、裂紋 B、夾渣 C、未熔合 D、氣孔 D 10、在相同吸收劑量的情況下，對(duì)人體傷害最大的射線種類是（ ） A、X射線 B、γ射線 C、中子射線 D、β射線 C 11、在射線探傷中應(yīng)用最多的三種射線是（ ） A、X射線、γ射線和中子射線 B、α射線、β射線和γ射線 C、X射線、γ射線和β射線 D、X射線、γ射線和α射線 A 12、X射線的曝光量是指（ ） A、管電流與曝光時(shí)間乘積 B、管電壓與管電流乘積 C、管電壓與曝光時(shí)間乘積 D、管電流與焦距乘積 A 13、決定射線照相靈敏度的主要因素有（ ） A、對(duì)比度 B、清晰度 C、顆粒度 D、以上全部 D 14、決定X射線機(jī)使用周期長短的主要原因是（ ） A、KV值 B、工件厚度 C、陽極冷卻效果 D、焦點(diǎn)尺寸 C 15、小徑管環(huán)焊縫雙壁雙影透照時(shí)，適合的曝光參數(shù)是（ ） A、較高電壓、較短時(shí)間 B、較高電壓、較長時(shí)間 C、較低電壓、較短時(shí)間 D、較低電壓、較長時(shí)間 A 16、射線照相中，使用象質(zhì)計(jì)的主要目的是（ ） A、測(cè)量缺陷大小 B、評(píng)價(jià)底片靈敏度 C、測(cè)定底片清晰度 D、以上都是 B 17、平板射線照相時(shí)，下面四種關(guān)于象質(zhì)計(jì)擺放的敘述，唯一正確的位置是（ ） A、近膠片一側(cè)的工件表面，并應(yīng)靠近膠片端頭； B、近射源一側(cè)的工件表面，金屬絲垂直焊縫，并位于工件中部； C、近膠片一側(cè)的工件表面，并應(yīng)處在有效照相范圍一端的焊縫上，金屬絲垂直于焊縫，細(xì)絲在外； D、近射源一側(cè)有效照相范圍一端的焊縫上，金屬絲垂直于焊縫，細(xì)絲在外。 D 18、觀片室的明暗程度最好是（ ） A、越暗越好 B、越亮越好 C、與透過底片的亮度大致相同 D、以上都不對(duì) C 19、底片上出現(xiàn)寬度不等，有許多斷續(xù)分枝的鋸齒形黑線，它可能是（ ） A、裂紋 B、未熔合 C、未焊透 D、咬邊 A 20、底片上出現(xiàn)的白點(diǎn)影像，它可能是（ ） A、鎢夾渣 B、焊瘤 C、焊接飛濺 D、以上都是 D 21、在顯影過程中應(yīng)翻動(dòng)膠片或攪動(dòng)顯影液，其目的是（ ） A、保護(hù)膠片，使其免受過大壓力 B、使膠片表面的顯影液更新 C、使膠片表面上未曝光的銀粒子散開 D、防止產(chǎn)生網(wǎng)狀皺紋 B 22、盛放顯影液的顯影槽不用時(shí)應(yīng)用蓋蓋好，這主要是為了（ ） A、防止藥液氧化 B、防止落進(jìn)灰塵 C、防止水分蒸發(fā) D、防止溫度變化 A 23、圓形缺陷用評(píng)定框尺進(jìn)行評(píng)定，框尺的長邊應(yīng)（ ） A、與焊縫方向平行 B、與焊縫成任意角度 C、與焊縫方向垂直 D、以上均可 A 24、與X射線相比，γ射線探傷優(yōu)點(diǎn)是（ ） A、設(shè)備簡(jiǎn)單 B、設(shè)備體積小 C、不用電源 D、以上全部 D 25、Ir192的半衰期為（ ） A、5.3年 B、75天 C、130天 D、30年 B 26、DL/T821-2002規(guī)定，對(duì)外徑大于76mm且小于或等于89mm的管子，其焊縫采用雙壁雙投影法透照時(shí)，應(yīng)（ ） A、分三次透照，兩次間隔120 B、分倆次透照，兩次間隔90 C、分四次透照，兩次間隔90 D、不分段，允許一次橢圓成像透照 B 27、DL/T821-2002規(guī)定，底片有效評(píng)定范圍內(nèi)的黑度為（ ） A、X射線應(yīng)在1.5-3.5范圍內(nèi)，γ射線應(yīng)在1.8-3.5范圍內(nèi) B、X射線應(yīng)在1.5-3.5范圍內(nèi)，γ射線應(yīng)在2.0-3.5范圍內(nèi) C、X射線應(yīng)在1.5-3.0范圍內(nèi)，γ射線應(yīng)在2.0-4.0范圍內(nèi) D、X射線應(yīng)在1.5-3.0范圍內(nèi)，γ射線應(yīng)在1.8-3.5范圍內(nèi) A 28、膠片浸入定影液1分鐘內(nèi)要上下移動(dòng)，定影時(shí)間一般為（ ） A、20分鐘 B、底片通透即可 C、通透時(shí)間的2倍 D、30分鐘 C 29、底片定影后需在流動(dòng)的清水中沖洗，一般為15-20分鐘，不得超過（ ），以防乳劑膜泡漲和粘附污物。 A、25分鐘 B、30分鐘 C、35分鐘 D、40分鐘 B 30、以下關(guān)于停顯液的敘述，哪一條是錯(cuò)誤的（ ） A、停顯液為酸性溶液 B、使用停顯液可防止兩色性霧翳產(chǎn)生 C、使用停顯液可防止定影液被污染 D、為防止藥膜損傷，可在停顯液中加入堅(jiān)膜劑無水亞硫酸鈉 D 31、顯影速度變慢，反差減小，灰霧增大，引起上述現(xiàn)象的原因可能是（ ） A、顯影溫度過高 B、顯影時(shí)間過短 C、顯影時(shí)攪動(dòng)不足 D、顯影液老化 D 32、探傷裝置的安全使用期限為（ ）年，禁止超期使用。 A、6 B、8 C、10 D、15 C 33、射線檢測(cè)人員任何一年中的有效劑量限值不應(yīng)超（ ） A、60mSv B、50mSv C、40mSv D、20mSv B 34、超聲波入射到異質(zhì)界面時(shí)可能發(fā)生（ ） A、反射 B、折射 C、波型轉(zhuǎn)換 D、以上全部 D 35、在金屬材料的超聲波檢測(cè)中，使用最多的頻率范圍是（ ） A、10～25MHz B、1～1000 MHz C、1～5 MHz D、大于20000 MHz C 36、探頭上標(biāo)的2.5MHz是指（ ） A、重復(fù)平率 B、工作頻率 C、觸發(fā)脈沖頻率 D、以上都對(duì) B 37、A型掃描顯示中，水平基線代表（ ） A、超聲回波的幅度大小 B、探頭移動(dòng)距離 C、聲波傳播時(shí)間 D、缺陷尺寸大小 C 38、A型掃描顯示“盲區(qū)”是指（ ） A、近場(chǎng)區(qū) B、聲速擴(kuò)散角以外區(qū)域 C、始脈沖寬度和儀器阻塞恢復(fù)時(shí)間 D、以上均是 C 39、儀器的水平線性的好壞直接影響（ ） A、缺陷性質(zhì)判斷 B、缺陷大小判斷 C、缺陷的精確定位 D、以上都對(duì) C 40、超聲探傷系統(tǒng)區(qū)別相鄰兩缺陷的能力稱為：（ ） A、檢測(cè)靈敏度 B、時(shí)基線性 C、垂直線性 D、分辨力 D 41、表示超聲波探傷儀與探頭組合性能的指標(biāo)有（ ） A、水平線性、垂直線性、衰減器精度 B、靈敏度余量、盲區(qū)、遠(yuǎn)場(chǎng)分辨力 C、動(dòng)態(tài)范圍、頻帶寬度、探測(cè)厚度 D、垂直線性、水平極限、重復(fù)頻率 B 42、以下哪一條不屬于數(shù)字化智能超聲波探傷儀的優(yōu)點(diǎn)（ ） A、檢測(cè)精度高，定位定量準(zhǔn)確 B、頻帶寬脈沖窄 C、可記錄存貯信號(hào) D、儀器有計(jì)算和自檢功能 B 43、超聲檢驗(yàn)中，當(dāng)探傷面比較粗糙時(shí)，宜選用（ ） A、較低頻探頭 B、較粘的耦合劑 C、軟保護(hù)膜探頭 D、以上全部 D 44、在厚焊縫斜探頭檢測(cè)時(shí)，宜使用什么方法標(biāo)定儀器時(shí)基線（ ） A、水平定位法 B、深度定位法 C、聲程定位法 D、一次波法 B 45、當(dāng)量大的缺陷實(shí)際尺寸（ ） A、一定大 B、不一定大 C、一定不大 D、等于當(dāng)量尺寸 A 46、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，探測(cè)中厚壁管焊接接頭橫向缺陷時(shí)，應(yīng)將距離——波幅曲線中各線靈敏度提高（ ） A、6dB B、8dB C、10dB D、以上都不對(duì) A 47、對(duì)有余高的焊縫作斜平行掃查探測(cè)焊縫橫向缺陷時(shí)，應(yīng)（ ） A、保持靈敏度不變 B、適當(dāng)提高靈敏度 C、增加大K值探頭探測(cè) D、以上B和C B 48、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，探頭的掃查速度不應(yīng)超過（ ），當(dāng)采用自動(dòng)報(bào)警裝置掃查時(shí)不受此限制 A、150m/s B、160m/s C、170m/s D、180m/s A 49、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，儀器在使用過程中，每隔（ ）個(gè)月至少對(duì)儀器的水平線性和垂直線性進(jìn)行一次測(cè)定 A、一 B、二 C、三 D、四 C 50、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，母材厚度大于（ ）時(shí)，不得采用A級(jí)檢驗(yàn) A、20mm B、30mm C、40mm D、50mm D 51、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，遇有哪種情況時(shí)，應(yīng)對(duì)儀器和探頭系統(tǒng)進(jìn)行復(fù)核（ ） A、校準(zhǔn)后的探頭、耦合劑和儀器調(diào)節(jié)旋鈕發(fā)生改變時(shí) B、開路電壓波動(dòng)或者檢測(cè)者懷疑靈敏度有變化時(shí) C、連續(xù)工作4小時(shí)以上，以及工作結(jié)束時(shí) D、以上都是 D 52、適合于磁粉探傷的材料是（ ） A、順磁性材料 B、有色金屬 C、鐵磁性材料 D、抗磁性材料 C 53、能夠進(jìn)行磁粉探傷的材料是（ ） A、碳鋼 B、奧氏體不銹鋼 C、黃銅 D、鋁 A 54、采用非熒光檢測(cè)工件時(shí)，對(duì)磁痕的觀察環(huán)境應(yīng)為（ ） A、黑光燈下 B、一定強(qiáng)度的可見光下 C、熒光下 D、暗室 B 55、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁懸液的施加不可采用（ ） A、噴灑法 B、澆灑法 C、浸泡法 D、刷涂法 D 56、常用的記錄磁痕方法是（ ） A、膠帶粘貼法 B、照相法 C、圖示法 D、以上都是 D 57、有表面裂紋所產(chǎn)生的磁痕，其特征一般（ ） A、大而不清晰 B、寬闊、無明顯的邊緣 C、明顯、清晰 D、A和B C 58、JB/T4730規(guī)定，對(duì)有延遲裂紋傾向的材料，磁粉檢測(cè)應(yīng)安排在焊后（ ）進(jìn)行 A、24小時(shí) B、36小時(shí) C、12小時(shí) D、48小時(shí) A 59、磁粉檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)試片的作用是（ ） A、鑒定磁粉探傷儀性能是否符合要求 B、選擇磁化規(guī)范 C、鑒定磁懸液或磁粉性能是否符合要求 D、以上都是 D 60、配置磁懸液時(shí)，保證濃度的合適是很重要的，因?yàn)榇欧厶鄷?huì)引起（ ） A、降低磁化電流 B、增加安匝數(shù) C、掩蓋磁痕顯示 D、以上都不是 C 61、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，凡長度小于（ ）的缺陷磁痕不計(jì)。 A、1mm B、0.1mm C、0.5mm D、0.8mm C 62、如果磁懸液不均勻，則（ ） A、磁痕顯示的強(qiáng)度將發(fā)生變化，解釋可能出錯(cuò) B、磁通量將不均勻 C、零件將不能被磁化 D、將影響磁懸液的流動(dòng)性 A 63、熒光磁粉顯示應(yīng)在哪種光線下檢驗(yàn)（ ） A、熒光 B、自然光 C、黑光 D、氖光 C 64、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，當(dāng)使用磁軛最大間距時(shí)，交流電磁軛至少應(yīng)有（ ）的提升力 A、4N B、45N C、68N D、92N B 65、電磁軛的磁極間距應(yīng)控制在（ ） A、70～200mm之間 B、50～200mm之間 C、75～250mm之間 D、以上均可 B 66、當(dāng)采用磁軛法時(shí)，檢測(cè)的有效區(qū)為兩極連續(xù)兩側(cè)各（ ）的范圍 A、1/4磁極間距 B、50mm C、1/4最大磁極間距 D、15mm B 67、用于磁粉探傷的磁粉應(yīng)具備的性能是（ ） A、無毒 B、磁導(dǎo)率高 C、頑磁性低 D、以上都是 D 68、磁粉探傷對(duì)哪種缺陷的檢測(cè)不可靠（ ） A、表面折疊 B、表面裂紋 C、表面縫隙 D、埋藏很深的洞 D 69、磁粉探傷的試件必須具備的條件是（ ） A、電阻小 B、探傷面能用肉眼觀察 C、探傷面必須光滑 D、試件必須有磁性 D 70、下列關(guān)于磁痕記錄的敘述中，正確的是（ ） A、現(xiàn)場(chǎng)記錄磁痕，如有可能應(yīng)采用復(fù)印法 B、磁痕復(fù)印應(yīng)在磁痕干燥后進(jìn)行 C、用拍照法記錄磁痕時(shí)，須把量尺同時(shí)拍攝進(jìn)去 D、以上都是 D 71、下列哪種方法有助于磁粉顯示的解釋（ ） A、使用放大鏡 B、復(fù)制顯示磁痕 C、在顯示形成過程中觀察顯示形成 D、以上都是 D 72、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，電磁軛的提升力至少（ ）校驗(yàn)一次 A、一個(gè)月 B、三個(gè)月 C、六個(gè)月 D、1年 C 73、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁痕顯示分為（ ） A、相關(guān)顯示 B、非相關(guān)顯示 C、偽顯示 D、以上都是 D 74、從事磁粉和滲透檢測(cè)人員的視力應(yīng)符合（ ） A、不得低于0.5 B、不得有色盲 C、不得有色弱 D、不得有色盲和色弱 D 75、液體滲透技術(shù)適合檢驗(yàn)非多孔材料的（ ） A、近表面缺陷 B、表面和近表面缺陷 C、表面開孔缺陷 D、內(nèi)部缺陷 C 76、滲透液滲入表面缺陷的原因是（ ） A、滲透液的粘性 B、毛細(xì)管作用 C、滲透液的化學(xué)作用 D、滲透液的重量 B 77、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的滲透檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)溫度為（ ）℃ A、10～30 B、5～30 C、10～50 D、15～30 C 78、滲透液在工件表面上噴涂時(shí)應(yīng)（ ） A、越多越好 B、保證覆蓋全部被檢表面，并保持不干狀態(tài) C、滲透時(shí)間盡可能的長 D、只要滲透時(shí)間足夠長，保持不干狀態(tài)并不重要 B 79、使用溶劑去除型滲透檢測(cè)時(shí)，清洗多余滲透劑不得采用（ ） A、往復(fù)擦洗 B、平行焊縫擦洗 C、一個(gè)方向擦洗 D、垂直焊縫擦洗 A 80、噴灑顯像劑時(shí)要注意（ ） A、不可過厚 B、順一個(gè)方向噴灑 C、噴灑前將顯像劑搖動(dòng)均勻 D、以上都是 D 81、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)要求，觀察顯示痕跡應(yīng)在顯像劑施加后（ ）分鐘內(nèi)進(jìn)行。 A、10～20 B、5～15 C、7～60 D、15～30 C 82、滲透探傷中，裂紋顯示一般為（ ） A、連續(xù)的直線狀或鋸齒狀顯示 B、圓形顯示 C、筆直的、單條實(shí)線顯示 D、不規(guī)則的圓孔形或長孔形顯示 A 83、滲透探傷劑的存放應(yīng)避免（ ） A、潮濕 B、高溫 C、干燥 D、無限制 B 84、下列哪條不是滲透檢測(cè)中的安全措施（ ） A、避免滲透劑與皮膚長時(shí)間接觸 B、避免吸入過多的顯像劑粉末 C、無論何時(shí)都必須帶防毒面具 D、由于滲透檢測(cè)中使用的溶劑是易燃的，所以這種材料應(yīng)遠(yuǎn)離明火 C 85、顯像后如發(fā)現(xiàn)工件表面本底污染嚴(yán)重?zé)o法判別時(shí)，應(yīng)該（ ） A、重新顯像 B、重新滲透 C、重新清洗后再次顯像 D、重復(fù)滲透探傷全過程 D 86、在實(shí)際檢測(cè)中，以下哪些做法是可取的（ ） A、環(huán)境溫度低影響到噴灌的正常噴射時(shí)，可將其放到溫水中加熱 B、用完的噴灌應(yīng)該在底部開個(gè)洞，釋放內(nèi)部物質(zhì)后再予以丟棄 C、在有些情況下，可以采取輕微的敲擊、振動(dòng)等措施，以促使?jié)B透劑的充分滲入 D、以上全是 D 87、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，在標(biāo)準(zhǔn)溫度下滲透劑的滲透時(shí)間一般不少于（ ）min A、5 B、10 C、7 D、30 B 88、不使用顯像劑的滲透檢測(cè)方法所用滲透劑為（ ） A、熒光滲透劑 B、著色滲透劑 C、以上均不可 D、以上均可 A 89、由于大多數(shù)滲透劑中含有可燃性物質(zhì)，所以在操作時(shí)應(yīng)注意防火，為此必須做到（ ） A、現(xiàn)場(chǎng)遠(yuǎn)離火源并設(shè)置滅火器材 B、現(xiàn)場(chǎng)不得存放過量的滲透液，并且在溫度過低時(shí)，不得用明火加熱滲透液 C、探傷設(shè)備應(yīng)加蓋密封并避免眼光直接照射 D、以上都是 D 90、深的弧坑裂紋顯示常呈現(xiàn)為（ ） A、小而緊密 B、圓形 C、細(xì)線狀 D、微弱而斷續(xù) B 91、在焊接件中可能發(fā)現(xiàn)下列哪種缺陷（ ） A、疏松 B、折疊 C、縫隙 D、未熔合 D 92、滲透探傷不能發(fā)現(xiàn)（ ） A、內(nèi)部孔洞 B、表面分層 C、表面裂紋 D、表面密集孔洞 A 93、下列哪種小的顯示最容易看到（ ） A、細(xì)而短的顯示 B、寬而短的顯示 C、細(xì)而長的顯示 D、窄而短的顯示 B 94、下列哪種情況可能引起偽缺陷顯示（ ） A、過分的清洗 B、滲透探傷時(shí)工件或滲透劑太冷 C、顯像劑施加不當(dāng) D、工件表面沾有棉絨或污垢 D 95、著色滲透劑的顯示呈現(xiàn)為（ ） A、白色背景上的明亮紅光 B、灰色背景上的紅色顯示 C、白色背景上的紅色顯示 D、發(fā)亮的白色背景上的紅色顯示 C 96、滲透檢測(cè)中，過度清洗最容易造成的漏檢是（ ） A、深而窄的缺陷 B、深的麻點(diǎn) C、淺而寬的缺陷 D、以上都是 C 97、滲透后去除滲透劑時(shí)，過分使用清洗劑的后果是（ ） A、造成浪費(fèi) B、降低靈敏度發(fā)生漏檢 C、造成污染 D、只要掌握的好，可達(dá)到最佳清洗效果 B 98、下面哪一條是滲透探傷的主要局限性（ ） A、不能用于鐵磁性材料 B、不能發(fā)現(xiàn)淺的表面缺陷 C、不能用于非金屬表面 D、不能發(fā)現(xiàn)近表面缺陷 D 99、對(duì)于現(xiàn)場(chǎng)無水源和電源的檢測(cè)易采用下列哪種方法（ ） A、溶劑去除型著色法 B、水洗型著色法 C、后乳化型著色法 D、溶劑去除型熒光法 A 100、下列關(guān)于滲透檢測(cè)用試塊的敘述哪一條是正確的（ ） A、著色滲透檢測(cè)用的試塊可以用于熒光滲透檢測(cè) B、熒光滲透檢測(cè)用的試塊可以用于著色滲透檢測(cè) C、試塊有阻塞時(shí)可繼續(xù)使用 D、試塊使用后要用丙酮進(jìn)行徹底清洗 D 二、判斷題（正確的在括號(hào)中劃“√”，錯(cuò)誤的劃“”，共100題） 1、金屬的焊接是通過適當(dāng)?shù)氖侄?，使兩個(gè)分離的金屬物體，產(chǎn)生原子（分子）間結(jié)合的成一體的方法。（ ） √ 2、檢測(cè)人員進(jìn)行射線檢測(cè)過程中，發(fā)現(xiàn)放射源泄露后，首先應(yīng)立即疏散周圍施工人員，然后報(bào)告應(yīng)急指揮中心。（ ） √ 3、進(jìn)行射線檢測(cè)工作時(shí)，必須有劑量儀監(jiān)測(cè)，以免發(fā)生放射事故。（ ） √ 4、各種熱裂紋只發(fā)生在焊縫上，不會(huì)發(fā)生在熱影響區(qū)。（ ） 5、γ射線檢測(cè)機(jī)的安全鎖應(yīng)配兩把鑰匙，須專人保管，以免丟失。（ ） √ 6、高空作業(yè)必須系好安全帶，安全帶應(yīng)掛在上方的牢固可靠處。（ ） √ 7、在焊接缺陷中危害最大的是未焊透。（ ） 8、射線檢測(cè)工作場(chǎng)所必須設(shè)置警戒區(qū)，嚴(yán)禁非工作人員進(jìn)入工作場(chǎng)所，以免造成誤照射。（ ） √ 9、多組檢測(cè)作業(yè)同時(shí)進(jìn)行時(shí)，檢測(cè)人員應(yīng)協(xié)調(diào)好開機(jī)時(shí)機(jī)。（ ） √ 10、無損檢測(cè)應(yīng)評(píng)定的缺陷是：氣孔、未焊透、未焊滿、裂紋、咬邊等。（ ） 11、具有初中學(xué)歷的人員可以在取得Ⅰ級(jí)資格一年后，報(bào)考Ⅱ級(jí)無損檢測(cè)資格。（ ） 12、夜間進(jìn)行射線檢測(cè)作業(yè)時(shí)，應(yīng)拉好照明燈。（ ） √ 13、《特種設(shè)備無損檢測(cè)人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則》中規(guī)定無損檢測(cè)持證人員資格有效期為5年。（ ） 14、凡準(zhǔn)備參加工業(yè)射線檢測(cè)工作的人員必須進(jìn)行就業(yè)前的健康檢查，合格后方可從事檢測(cè)工作。（ ） √ 15、半衰期是指放射性物質(zhì)原子數(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)樵瓉淼囊话胨璧臅r(shí)間。（ ） √ 16、小徑管雙壁透照的要點(diǎn)是選用較高管電壓、較低曝光量，其目的是減小底片反差，擴(kuò)大檢出區(qū)域。（ ） √ 17、當(dāng)照射量相同時(shí)，高能X射線比低能X射線對(duì)人體的傷害力更大一些。（ ） √ 18、對(duì)曝光不足的底片，可采用增加顯影時(shí)間或提高顯影溫度的方法來增加底片黑度，從而獲得符合要求的底片。（ ） 19、為保持顯影性能的穩(wěn)定，可采用定期添加補(bǔ)充液的方法進(jìn)行，但添加補(bǔ)充液的總量不允許超過原顯影液體積的3倍。（ ） √ 20、射線底片上產(chǎn)生黑的月牙形痕跡的原因可能是曝光后使膠片彎曲。（ ） √ 21、使用被劃傷的鉛箔增感屏照相，底片上會(huì)出現(xiàn)與劃傷相應(yīng)的清晰的黑線。（ ） √ 22、背散射線的存在會(huì)影響底片的對(duì)比度。通?？稍诠ぜ湍z片之間放置一個(gè)鉛字B來驗(yàn)證背散射線是否存在。（ ） 23、當(dāng)對(duì)接接頭兩側(cè)的母材厚度不同時(shí)，應(yīng)取較厚側(cè)的厚度為評(píng)片的依據(jù)。（ ） 24、按DL/T821-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，在評(píng)定框尺內(nèi)，同時(shí)存在幾種類型缺陷時(shí)應(yīng)綜合評(píng)級(jí)，即各自評(píng)級(jí)，將級(jí)別之和減1作為最終評(píng)級(jí)。（ ） √ 25、DL/T821-2002規(guī)定，外徑小于或等于76mm的管子，其對(duì)接接頭透照應(yīng)采用規(guī)定的Ⅰ型或Ⅱ型專用象質(zhì)計(jì)。（ ） √ 26、DL/T869-2004規(guī)定，對(duì)同一焊接接頭同時(shí)采用射線和超聲波兩種方法進(jìn)行檢驗(yàn)時(shí)，只要有一種檢驗(yàn)方法合格即可。（ ） 27、DL/T869-2004規(guī)定，焊接接頭有超過標(biāo)準(zhǔn)的缺陷時(shí)，可采取挖補(bǔ)方式返修。但同一位置上的挖補(bǔ)次數(shù)一般不得超過三次，耐熱鋼不得超過兩次。（ ） √ 28、X射線比γ射線更容易被人體吸收，所以X射線對(duì)人體的傷害比γ射線大。（ ） 29、透照不銹鋼焊縫，可以使用碳素鋼絲象質(zhì)計(jì)。（ ） √ 30、超聲波的波長越長，聲束擴(kuò)散角就越大，發(fā)現(xiàn)小缺陷的能力也就越強(qiáng)。（ ） 31、當(dāng)聲束以一定角度入射到不同介質(zhì)的界面上，會(huì)發(fā)生波形轉(zhuǎn)換。（ ） √ 32、調(diào)節(jié)探傷儀的“水平”旋鈕，將會(huì)改變儀器的水平線性。（ ） √ 33、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，母材厚度大于50mm時(shí)，不得采用A級(jí)檢驗(yàn)。（ ） √ 34、對(duì)于打磨光潔度較高的工件表面進(jìn)行檢測(cè)時(shí)，可不用耦合劑進(jìn)行耦合。（ ） 35、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，根據(jù)不同焊接接頭質(zhì)量要求，檢驗(yàn)等級(jí)分為A、B、C三級(jí)，檢驗(yàn)的完善程度A級(jí)最低、C級(jí)最高。（ ） √ 36、超聲波探頭頻率一般在5～10MHz范圍內(nèi)選擇。（ ） 37、在新探頭開始使用時(shí)，應(yīng)對(duì)探頭進(jìn)行一次全面的性能校準(zhǔn)。（ ） √ 38、采用當(dāng)量法確定的缺陷尺寸一般小于缺陷的實(shí)際尺寸。（ ） √ 39、焊縫橫波探傷時(shí)，如采用直射法，可不考慮結(jié)構(gòu)反射、變型波等干擾回波的影響。（ ） 40、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，對(duì)于中厚壁管焊接接頭檢驗(yàn)，最大反射波幅度位于Ⅱ區(qū)的缺陷，其指示長度小于10mm時(shí)，按5mm計(jì)。（ ） √ 41、對(duì)于中小徑薄壁管焊接接頭檢驗(yàn)，可采用甲基纖維素的糊狀物或甘油為基本成分的耦合劑，也可采用油類為耦合劑。（ ） 42、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，探測(cè)中厚壁管焊接接頭橫向缺陷時(shí)，應(yīng)將距離—波幅曲線中各線靈敏度提高6dB。（ ） √ 43、半波高度法用來測(cè)量小于聲束截面的缺陷的尺寸。（ ） 44、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，對(duì)于中厚壁管焊接接頭檢驗(yàn)，相鄰兩缺陷各向間距小于10mm時(shí)，兩缺陷指示長度之和作為單個(gè)缺陷的指示長度。（ ） 45、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，最大反射波幅度不超過EL線，和反射波幅度位于Ⅰ區(qū)的裂紋、未熔合、根部未焊透性質(zhì)的缺陷，評(píng)定為Ⅰ級(jí)。（ ） 46、無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程應(yīng)根據(jù)相關(guān)法規(guī)、產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)、有關(guān)的技術(shù)文件和JB/T4730本部分的要求，并針對(duì)檢測(cè)機(jī)構(gòu)的特點(diǎn)和檢測(cè)能力進(jìn)行編制。 （ ） √ 47、JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁粉探傷設(shè)備上的電流表至少每年應(yīng)校驗(yàn)一次。（ ） 48、對(duì)磁粉檢測(cè)油載液要求的粘度指標(biāo)主要是考慮其流動(dòng)性，低閃點(diǎn)指標(biāo)主要是考慮安全性問題。（ ） 49、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁軛法探傷時(shí)，磁軛的磁極間距應(yīng)控制在50-200mm之間，檢測(cè)的有效區(qū)域?yàn)閮蓸O連線兩側(cè)各50mm范圍內(nèi)。（ ） 50、根據(jù)JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁懸液的施加可可采用噴、澆、刷、浸等方法，但無論用哪種方法，均不應(yīng)使檢測(cè)面上磁懸液的流速過快。（ ） 51、任何物體的周圍都存在磁場(chǎng)。（ ） √ 52、磁粉檢測(cè)適用于檢查鐵磁性材料的表面和近表面的缺陷。（ ） √ 53、1Cr13不銹鋼材料的磁導(dǎo)率很低，不適宜磁粉檢測(cè)。（ ） 54、使用標(biāo)準(zhǔn)試片時(shí)，必須將有槽的一面朝向工件。（ ） √ 55、磁粉檢測(cè)只能探測(cè)開口于時(shí)間表面的缺陷，而不能探測(cè)近表面缺陷。（ ） 56、磁粉檢測(cè)不能檢測(cè)奧氏體不銹鋼材料，也不能檢測(cè)銅、鋁等非磁性材料。（ ） √ 57、磁粉檢測(cè)中，偽顯示和非相關(guān)顯示的意義是相同的。（ ） 58、焊縫中層間未熔合，容易用磁粉檢測(cè)方法檢出。（ ） 59、旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)是一種特殊的復(fù)合磁場(chǎng)，它可以檢測(cè)工件任何方向的表面及近表面缺陷。（ ） √ 60、磁懸液的濃度越大，對(duì)缺陷的檢出能力就越高。（ ） 61、使用任何磁化方法都應(yīng)保持探傷儀和工件的良好接觸，以減少磁路上的磁阻和防止燒傷工件表面。（ ） √ 62、連續(xù)法應(yīng)在磁化的同時(shí)施加磁粉或磁懸液，應(yīng)先斷電后停止施加磁粉或磁懸液。（ ） 63、在磁粉檢測(cè)中，認(rèn)為假顯示和非相關(guān)顯示的意義是相同的。（ ） 64、由于熱處理使試件某些區(qū)域的磁導(dǎo)率改變，可能形成非相關(guān)顯示。（ ） √ 65、磁粉檢測(cè)難以發(fā)現(xiàn)埋藏較深的孔洞，以及與工件表面夾角大于20的分層。（ ） 66、JB/T4730-2005《承壓設(shè)備無損檢測(cè)》標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：采用干法時(shí)，應(yīng)確認(rèn)檢測(cè)面和磁粉已完全干燥，然后再施加磁粉。（ ） √ 67、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：實(shí)施無損檢測(cè)的人員應(yīng)按無損檢測(cè)通用工藝規(guī)程進(jìn)行操作。（ ） 68、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：滲透檢測(cè)人員的未經(jīng)矯正或矯正視力應(yīng)不低于5.0，不得有色盲、色弱，并每年檢查1次。（ ） 69、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：施加水濕式顯像劑時(shí)，檢測(cè)面應(yīng)在施加后進(jìn)行干燥處理。（ ） √ 70、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：鍍鉻試塊主要用于檢驗(yàn)滲透檢測(cè)劑系統(tǒng)靈敏度及操作工藝正確性。（ ） √ 71、滲透探傷可以檢查非疏孔性金屬和非金屬的表面開口缺陷。（ ） √ 72、滲透檢測(cè)滲透劑進(jìn)入缺陷的原因是缺陷內(nèi)存在引力。（ ） 73、檢驗(yàn)鐵磁性材料的表面裂紋時(shí)，滲透檢驗(yàn)法的靈敏度一般要低于磁粉檢驗(yàn)法。（ ） √ 74、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，不同類型的滲透劑不得混用。（ ） √ 75、為了使?jié)B透劑充分均勻，提高滲透效果，噴灌式溶劑去除型滲透劑使用前應(yīng)充分搖勻。（ ） 76、施加滲透探傷劑時(shí)，應(yīng)注意使?jié)B透劑在工件表面上始終保持潤濕狀態(tài)。（ ） √ 77、當(dāng)用溶劑清晰多余的滲透劑時(shí)，不得用清洗劑在工件表面上被檢處直接沖洗。（ ） √ 78、為顯示細(xì)微裂紋，施加顯像劑時(shí)，顯像層越厚越好。（ ） 79、對(duì)同一檢測(cè)工件，不能混用不同類型的滲透檢測(cè)劑。（ ） √ 80、由于滲透檢測(cè)檢出的缺陷是開口缺陷，因此只要出現(xiàn)顯示，痕跡就可斷定其必是缺陷。（ ） 81、滲透探傷時(shí)，淺而寬的缺陷最容易檢出。（ ） 82、熒光滲透探傷的靈敏度等級(jí)分為很低級(jí)、低級(jí)、中級(jí)、高級(jí)、超高級(jí)共五個(gè)級(jí)別。（ ） √ 83、對(duì)滲透檢測(cè)操作要求最高的工序是痕跡解釋和評(píng)定。（ ） √ 84、做過著色滲透檢測(cè)試驗(yàn)的標(biāo)準(zhǔn)試塊不能再做熒光滲透檢測(cè)，反之則可以。（ ） 85、溶劑去除型滲透劑用清洗劑去除。不得往復(fù)擦拭，不得用清洗劑直接在被檢面上沖洗。（ ） √ 86、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：顯示分為相關(guān)顯示，非相關(guān)顯示和虛假顯示，小于0.5mm的顯示不計(jì)，其它任何顯示均應(yīng)記錄和評(píng)定。（ ） 87、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：長度與寬度之比小于3的缺陷顯示，按圓形缺陷處理。（ ） 88、JB/T4730-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：對(duì)于有延遲裂紋傾向的材料，至少應(yīng)在焊接完成后24h后進(jìn)行焊接接頭的滲透檢測(cè)。（ ） √ 89、對(duì)現(xiàn)場(chǎng)無水源、電源的檢測(cè)易采用溶劑去除型熒光法。（ ） 90、JB/T4730-2005規(guī)定：著色滲透檢測(cè)時(shí)，缺陷的顯示記錄可采用照相、錄像和可剝性塑料薄膜等方式記錄，同時(shí)應(yīng)用草圖進(jìn)行標(biāo)示。( ) √ 91、滲透檢測(cè)劑必須具有良好的檢測(cè)性能，對(duì)試件無腐蝕，對(duì)人體完全無毒害作用。（ ） 92、磁粉檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)試片表面有銹蝕、褶折或磁特性發(fā)生改變時(shí)不得繼續(xù)使用。（ ） √ 93、每天檢測(cè)工作開始前，應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)試片檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)設(shè)備及磁粉和磁懸液的綜合性能（系統(tǒng)靈敏度）。（ ） √ 94、磁懸液的施加可以采用噴、澆、浸、刷涂等方法，無論采用何種方法，均不應(yīng)使檢測(cè)面上磁懸液的流速過快。（ ） 95、采用連續(xù)法進(jìn)行磁粉檢測(cè)時(shí)，為保證磁化效果應(yīng)至少反復(fù)磁化三次。（ ） 96、使用交叉磁軛裝置時(shí)，四個(gè)磁極斷面與檢測(cè)面之間應(yīng)盡量貼合，最大間隙不應(yīng)超過1.5mm。（ ） √ 97、缺陷磁痕的觀察應(yīng)在磁痕形成后立即進(jìn)行。（ ） √ 98、磁粉檢測(cè)結(jié)束時(shí)，應(yīng)用標(biāo)準(zhǔn)試片再次驗(yàn)證檢測(cè)靈敏度是否符合要求。（ ） √ 99、對(duì)于噴灌式滲透檢測(cè)劑，其噴灌表面不得有銹蝕，噴灌不得出現(xiàn)泄漏。（ ） √ 100、同時(shí)在兩個(gè)以上特種設(shè)備檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)中執(zhí)業(yè)的檢驗(yàn)檢測(cè)人員，情節(jié)嚴(yán)重的，給予停止執(zhí)業(yè)6個(gè)月以上2年以下的處罰。（ ） √ 三、填空題（共50題） 1、《特種設(shè)備安全監(jiān)察條例》自 起施行。 2009年5月1日 2、凡從事射線檢測(cè)的工作人員，必須經(jīng)環(huán)保部門培訓(xùn)合格，取得 資格證后方可上崗。 輻射人員 3、焊接接頭由焊縫、 和熱影響區(qū)三個(gè)部分組成。 熔合區(qū) 4、夾渣的分布與形狀有單個(gè)點(diǎn)狀?yuàn)A渣、 、鏈狀?yuàn)A渣和密集夾渣。 條狀?yuàn)A渣 5、從產(chǎn)生溫度上看，裂紋分為熱裂紋、 。 冷裂紋 6、射線檢測(cè)人員通常采取的防護(hù)方法是 、 、屏蔽防護(hù)。 時(shí)間、距離 7、工業(yè)射線檢測(cè)裝置指 和 。 γ射線探傷機(jī)、X射線探傷機(jī) 8、γ射線檢測(cè)作業(yè)結(jié)束后，放射源則應(yīng)及時(shí)入庫，并進(jìn)行核對(duì)登記，嚴(yán)禁將γ射線探傷機(jī)放在臨時(shí)設(shè)施的房內(nèi)，以防放射源 。 丟失被盜 9、當(dāng)γ射線檢測(cè)作業(yè)結(jié)束后，檢測(cè)人員應(yīng)使用射線報(bào)警器監(jiān)測(cè)，確認(rèn) 已安全回收到射線探傷裝置中后，才能離開現(xiàn)場(chǎng)。 放射源 10、γ射線探傷機(jī)射源輸出輸入轉(zhuǎn)動(dòng)控制纜搖柄時(shí)，應(yīng) ，嚴(yán)禁用力猛搖造成傳輸控制纜損壞。 快速輕搖 11、射線檢驗(yàn)人員必須正確穿戴符合專業(yè)要求的勞動(dòng)防護(hù)用品，并佩帶 和個(gè)人劑量儀，以測(cè)定工作環(huán)境的射線照射量和個(gè)人受照的累積劑量當(dāng)量。 輻射報(bào)警器 12、χ或γ射線檢驗(yàn)時(shí)，檢驗(yàn)人員必須根據(jù)射線強(qiáng)度劃出 和監(jiān)督區(qū)，在警戒區(qū)邊界上拉好警戒繩并懸掛 “當(dāng)心電離輻射”等字樣的警示標(biāo)識(shí)，當(dāng)確認(rèn)作業(yè)區(qū)內(nèi)無其他人員后方可工作。 控制區(qū) 13、Se75放射源的半衰期為 。 120天 14、X射線管的陽極靶最常用的材料是 。 鎢 15、DL/T821-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，底片上應(yīng)清晰地顯示出象質(zhì)計(jì)、深度對(duì)比塊、 和識(shí)別標(biāo)記。 定位標(biāo)記 16、當(dāng)象質(zhì)計(jì)放在膠片側(cè)工件表面時(shí)，應(yīng)附加 標(biāo)記以示區(qū)別。 F 17、DL/T821-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，當(dāng)透照呈排狀的管子并使數(shù)個(gè)管子焊縫透照在同一張底片上時(shí)，象質(zhì)計(jì)應(yīng)放在最 側(cè)的管子上。 外 18、對(duì)于外徑小于或等于76mm的管子，其焊縫采用雙壁雙投影法透照時(shí)，允許一次透照并應(yīng)選擇較高管電壓，曝光量宜控制在 mAmin以內(nèi)，管子內(nèi)壁輪廓應(yīng)清晰的顯現(xiàn)在底片上。 7.5 19、DL/T821-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，凡焊縫內(nèi)有裂紋和未熔合即評(píng)為 級(jí)。 Ⅳ 20、隨著射線能量的降低，透照?qǐng)D像的對(duì)比度將增加，因此，在保證穿透力和檢測(cè)范圍的前提下，應(yīng)盡量采用 的射線能量。 較低 21、χ射線裝置長期不使用時(shí)或不是連續(xù)使用的，每月必須訓(xùn)機(jī)一次并應(yīng)訓(xùn)機(jī)至 %以上。 70 22、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，對(duì)于中厚壁管焊接接頭的檢驗(yàn)，可采用前后、左右、 和環(huán)繞等四種探頭基本掃查方式。 轉(zhuǎn)角 23、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，母材厚度大于 mm時(shí)，不得采用A級(jí)檢驗(yàn)。 50 24、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，焊縫兩側(cè)的母材，檢驗(yàn)前應(yīng)測(cè)量管壁厚度，至少每隔 測(cè)量一點(diǎn)，并做好記錄。 90 25、DL/T820-2002標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，在使用過程中，儀器的水平線性和垂直線性每隔 至少應(yīng)進(jìn)行一次測(cè)定。 三個(gè)月 26、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)的磁粉檢測(cè)部分適用于鐵磁性材料制承壓設(shè)備的原材料、零部件和焊接接頭表面、 缺陷的檢測(cè)。 近表面 27、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，但使用磁軛最大間距時(shí)，交叉磁軛至少應(yīng)有 的提升力。 118N 28、磁粉檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)試片適用于連續(xù)磁化法，使用時(shí)，應(yīng)將試片無人工缺陷的面朝 。 外 29、磁化方向包括 、周向磁化和復(fù)合磁化。 縱向磁化 30、采用磁軛法檢測(cè)工件時(shí)，磁化區(qū)域每次應(yīng)有不少于 的重疊。 15mm 31、磁粉探傷是利用缺陷處漏磁場(chǎng)與磁粉相互作用的原理，檢測(cè)鐵磁性材料 缺陷的一種無損檢測(cè)方法。 表面及近表面 32、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，關(guān)于磁粉檢測(cè)在圓形缺陷評(píng)定區(qū)內(nèi)同時(shí)存在多種缺陷時(shí)，應(yīng)進(jìn)行 評(píng)級(jí)。 綜合 33、磁粉探傷不能檢測(cè)奧氏體不銹鋼材料，也不能檢測(cè)銅、鋁等 。 非磁性材料 34、工件磁化通電方式可分為 和剩磁法。 連續(xù)法 35、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，缺陷磁痕的顯示記錄可采用 、錄像和可剝性塑料薄膜等方式記錄。 照相 36、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，磁痕顯示分為相關(guān)顯示、非相關(guān)顯示和 。 偽顯示 37、滲透探傷滲透劑進(jìn)入缺陷的原因是由于 原理。 毛細(xì)作用 38、溶劑去除型滲透檢測(cè)劑一般包括滲透劑、清洗劑和 。 顯像劑 39、在清洗多余滲透劑時(shí)，不得 擦拭，不得用清洗劑直接在被檢面沖洗。 往復(fù) 40、噴施顯像劑時(shí)，噴嘴離被檢面距離為 mm，噴灑方向與被檢面夾角為30～40。 300～400 41、根據(jù)滲透液所含染料成分，滲透探傷分為 、著色法和熒光著色法三大類。 熒光法 42、JB/T4730標(biāo)準(zhǔn)的滲透檢測(cè)部分適用于非多孔性金屬材料或非金屬材料制承壓設(shè)備在制造、安裝及使用中產(chǎn)生的 缺陷的檢測(cè)。 表面開口 43、滲透檢測(cè)操作的基本步驟有：預(yù)清洗、施加滲透劑、 、干燥、施加顯像劑、觀察及評(píng)定。 去除多余的滲透劑 44、施加滲透劑時(shí)，應(yīng)能保證被檢部位完全被滲透劑覆蓋，并在整個(gè)滲透時(shí)間內(nèi)保持 狀態(tài)。 潤濕 45、《特種設(shè)備無損檢測(cè)人員考核與監(jiān)督管理規(guī)則》中規(guī)定，無損檢測(cè)持證人員資格有效期為 年。 4 46、特種設(shè)備檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)和檢驗(yàn)檢測(cè)人員應(yīng)當(dāng) 、 、及時(shí)地出具檢驗(yàn)檢測(cè)結(jié)果、鑒定結(jié)論。 客觀、公正 47、檢驗(yàn)檢測(cè)人員從事檢驗(yàn)檢測(cè)工作，必須在特種設(shè)備檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)執(zhí)業(yè)，但不得同時(shí)在 以上檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)中執(zhí)業(yè)。 兩個(gè) 48、特種設(shè)備檢驗(yàn)檢測(cè)機(jī)構(gòu)和檢驗(yàn)檢測(cè)人員對(duì)涉及的被檢驗(yàn)檢測(cè)單位的商業(yè)機(jī)密，負(fù)有 義務(wù)。 保密 49、無損檢測(cè)人員應(yīng)按照無損檢測(cè)規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)、無損檢測(cè) 和無損檢測(cè)工藝卡的要求開展無損檢測(cè)試驗(yàn)工作。 作業(yè)指導(dǎo)書 50、無損檢測(cè)人員負(fù)責(zé)試驗(yàn)數(shù)據(jù)的記錄、整理、評(píng)定與處理，并出具 。 試驗(yàn)報(bào)告 四、名詞解釋（共20題） 1、無損檢測(cè) 是指在不損壞試件的前提下，以物理或化學(xué)方法為手段，借助先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)備器材，對(duì)試件進(jìn)行檢查和測(cè)試的方法。 2、未焊透 指母材金屬未熔化，焊縫金屬?zèng)]有進(jìn)入接頭跟部的現(xiàn)象。 3、未熔合 指焊縫金屬與母材金屬，或焊縫金屬之間未溶化結(jié)合在一起的缺陷。 4、焊接接頭 在焊接結(jié)構(gòu)中，各零部件之間用焊接方法連接的部分稱為焊接接頭，焊接接頭包括焊縫、熔合區(qū)和 熱影響區(qū)三個(gè)部分。 5、放射性同位素的半衰期 指放射性物質(zhì)原子數(shù)轉(zhuǎn)變?yōu)樵瓉淼囊话胨璧臅r(shí)間。 6、圓形缺陷 長寬比小于或等于3的缺陷（包括氣孔、夾渣、夾鎢）定義為圓形缺陷。 7、條狀缺陷 長寬比大于3的缺陷（包括氣孔、夾渣、夾鎢）定義為條狀缺陷。 8、一次透照長度 是指采用分段曝光時(shí)，每次曝光所檢測(cè)的焊縫長度。 9、透照厚度 射線照射方向上材料的公稱厚度。 10、射線裝置 是指X線機(jī)、加速器、中子發(fā)生器以及含放射源的裝置。 11、輻射事故 是指放射源丟失、被盜、失控，或者放射性同位素和射線裝置失控導(dǎo)致人員受到意外的異常照射。 12、超聲波的衰減 超聲波在介質(zhì)中傳播時(shí)，隨著傳播距離的增加，超聲波的能量逐漸減弱的現(xiàn)象稱為超聲波的衰減。 13、耦合劑 在探頭與工作表面之間施加的一層透聲介質(zhì)，稱為耦合劑。 14、超聲波缺陷定量 指超聲波探傷中確定工件中缺陷的大小和數(shù)量。 15、磁粉檢測(cè)偽顯示 不是由漏磁場(chǎng)吸附磁粉形成的磁痕顯示，也叫假顯示。 16、磁痕 通常把磁粉檢測(cè)時(shí)磁粉聚集形成的圖象稱為磁痕。 17、磁粉檢測(cè)相關(guān)顯示 磁粉檢測(cè)時(shí)由缺陷產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)吸附磁粉形成的磁痕顯示。 18、滲透檢測(cè)虛假顯示 由于滲透劑污染等所引起的滲透劑顯示。 19、滲透檢測(cè) 是一種毛細(xì)作用原理為基礎(chǔ)，用于檢查非疏孔性金屬和非金屬試件表面開口缺陷的無損檢測(cè)方法。 20、滲透檢測(cè)相關(guān)顯示 滲透檢測(cè)時(shí)由缺陷產(chǎn)生的滲透劑顯示。 五、簡(jiǎn)答題（共20題） 1、目前無損檢測(cè)常用的方法有哪幾種？是如何表示的？ 目前常用的無損檢測(cè)方法有五種，即射線檢測(cè)，以RT表示，超聲波檢測(cè)，以UT表示，磁粉檢測(cè)，以MT表示，滲透檢測(cè)，以PT表示，渦流檢測(cè)，以ET表示。 2、焊接接頭中常見的內(nèi)部缺陷有哪些？ 內(nèi)部缺陷包括：未焊透、未熔合、裂紋、氣孔、夾渣、夾鎢等。 3、射線可分為哪幾類，用于工業(yè)探傷的射線有哪幾種？ （1）X射線和γ射線，它們都是波長很短的電磁波。 （2）電子射線和β射線，它們都是高速電子流。 （3）質(zhì)子射線、氘核射線和α射線，它們都是帶正電的粒子流。 （4）中子射線，它是高速中子流。